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ARMとシノプシス、ARM Mali GPUのインプリメンテーション最適化に向けて協業

Galaxyデザイン?プラットフォームのDTP準拠フローを活用し业界初のMali-T658の20nmプロセス?テープアウトを達成

概要

• ARM?の础谤迟颈蝉补苍?フィジカル IPならびにGPU IPのMaliTMと、20nm以降のプロセスで実証されたシノプシスのGalaxyデザイン?プラットフォームの組み合わせ
• Mali GPUのインプリメンテーションに向けたDPT（ダブル?パターニング?テクノロジ）対応メソドロジの提供で協業中
• Mali-T600シリーズの20nmプロセスでの业界初のインプリメンテーションに成功し、Mali製品ファミリーの20nm以降のプロセス?テクノロジでの実装を加速するインプリメンテーション?フロー確立に向け前進

2013年2月21日 カリフォルニア州マウンテンビュー発 ならびに 英国ケンブリッジ発 - ARM（ロンドン株式市場上場コード:ARM、Nasdaq上場コード: ARMH）とシノプシス（Nasdaq上場コード:SNPS）は、シノプシスのGalaxyデザイン?プラットフォームを用いて、20nm以降のプロセス?テクノロジでARMのGPU（グラフィックス?プロセッシング?ユニット）Maliの性能を最適化するための協業を発表した。両社は、20nmプロセス?テクノロジ、ARM Artisanフィジカル IP、シェーディング機能を組み合わせたARM Mali-T658のテープアウトに业界で初めて成功した。この協業の成果であるRTL-サインオフ设计フローは、あらゆる段階でダブル?パターニングをサポートしている。両者の協業は継続中で、これにより设计者は開発対象のアプリケーションに向けてMali GPUを最適化実装することができるようになる。

ARM メディア?プロセッシング部門　ジェネラルマネージャー Pete Huttonは、次のように語っている。「Mali GPUは、現在出荷されている多くのアンドロイド端末やスマートデジタルTVに組み込まれており、スマートフォンに関しても、もっともよく搭載されるグラフィックス?ソリューションのひとつです。最先端のグラフィックス機能を求めるユーザーニーズはとどまることを知らず、最終製品の開発にあたってはGPUの最適化が非常に重要です。シノプシス社との長年にわたる協業実績に基づき開発した今回のソリューションにより、设计者の皆様は、シノプシス社のEDAツールを使用してARM Mali-T600 GPUファミリーを20nm以降のプロセス?テクノロジ向けに最適化し実装できるようになるでしょう」

Mali-T600ファミリーは、Mali-T604、Mali-T624、Mali-T628、Mali-T658、およびMali-T678の5つの製品で構成されている。これらは全て、並外れたグラフィックス処理性能を実現すべく開発されており、またモバイル機器でGPUコンピューティングを実現した业界初のグラフィックス?テクノロジである。こうした性能を実現するためハードウェア開発は複雑なものとなっており、20nm以降のプロセス?テクノロジで必要になってくるダブル?パターニング?テクノロジによりさらに複雑度が増加している。

20nm以下のような極微細なプロセス?テクノロジで迅速な设计収束と最適な結果を達成するためには、高度に統合された设计フローが必要となってくる。今回の協業では、Mali GPUとARM Artisanフィジカル IPを20nmで実装するためにチューンナップされたメソドロジを生み出すためにGalaxyデザイン?プラットフォームが使用されている。用いられた主要なツールは、論理合成ツール Design Compiler、フォーマル検証ツール Formality、テスト容易化设计ツール DFTMAXならびにTetraMAX、フィジカル设计ツール IC Compiler、RC抽出ツール IC Compiler、タイミング解析サインオフ?ツール PrimeTimeである。また、设计収束にかかる期間を短縮するため、フィジカル検証ツール IC Validatorが提供する各種インデザイン?フィジカル検証機能もインプリメンテーション工程で活用されている。DC ExplorerとDataflow Analyzer (IC Compilerのフロアプラン?データ解析機能) も设计早期段階でのデザイン検討、とりわけGPU性能を左右するフロアプランニングとマクロ配置の検討に大きく貢献した。

シノプシス　インプリメンテーション?グループ　上級副社長兼ジェネラルマネージャー Antun Domicは、次のように述べている。「20nm以降のプロセス?テクノロジでは设计の複雑度は新たな段階に突入し、半導体開発のエコシステム?パートナー間での迅速かつ緊密な技術協力が欠かせないものとなります。今回のARM社との協業を通じ、当社のインデザイン?フィジカル検証技術も含めたGalaxyデザイン?プラットフォームはARM Mali IPとARM Artisanフィジカル IPと緊密に統合され、テープアウト実証済みのDPT準拠设计ソリューションを提供することになります。これにより20nm以降のプロセス?テクノロジでの複雑なSoC设计の収束にかかる期間を短縮することができるようになります」